ALD-Prozesse

So geht's weiter mit ALD-Prozesse

Steigert Leistung von Halbleitern: Japanisches Unternehmen entwickelt neuartigen Ruthenium-Präkursor

"TRuST"-Präkursor von TANAKA verbessert die Filmbildungsgeschwindigkeit bei der Gasphasen- und Atomlagenabscheidung Die TANAKA Kikinzoku Kogyo K.K., ein japanisches Unternehmen, welches das Edelmetallgeschäft der TANAKA Holding...

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